一.分光光谱仪：高感度分光光谱仪  紫外/可见/近红外光分光光谱仪
   应用范围：
        发光光谱分析仪系统
        反射光谱分析仪系统
        穿透、吸收光谱分析仪系统
        色度光谱分析仪系统
        光源光谱分析仪系统(色度/辉度/照度)
        膜厚光谱分析仪系统
        萤光光谱分析仪系统
        双折射相位差光谱分析仪
        微光学元件光谱分析仪系统

产品规格：
                分光光谱仪-2285C   分光光谱仪-3095C   分光光谱仪-3683C   分光光谱仪-311C  分光光谱仪-916C              
波长范围 220 ~ 850nm 300 ~ 950nm 360 ~ 830nm 360 ~ 1100nm 900 ~ 1600nm
分光系统 平面场型
检测单位 电子冷却型CCD图像传感器 电子冷却型InGaAs
图像传感器
                512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch
理论分辨率 1.4nm 0.7nm 1.4nm 0.7nm 1.0nm 0.5nm 1.6nm 0.8nm 1.9nm
光纤规格 石英光纤、口徑φ12mm、长度约2m 掺锗石英光纤、
长度约2m
量测功能 发光光谱量测、反射率光谱量测、穿透率光谱量测、吸收光谱量测
尺寸重量 110(W)x 230(H)x 282(D)mm，约6kg 

产品特点：
        *高动态范围(HDR)光谱仪可量测透明、低对比、高反射率样品，最适用于量测光通量。
        *有效抑制杂散光，最适合UV光谱分析。相较于本公司历代分光光度计，杂光率仅约五分之一!
        *曝光时间5msec~65sec*。适用于量测微弱光源以及架设于生产线上即时检测等多元应用。
        *经过特殊设计缠绕的光纤，展现稳定的重复再现性量测。
        *小巧轻量化的设计，相较于历代机型，容积比约减少60%。

二.紫外/可见/近红外光分光光谱仪

产品规格

型号规格     28C            311C            3593C
波长范围 220 ~ 800 nm 330 ~ 1100 nm 350 ~ 930 nm
分光元件 全息成像光栅、F=3、f=135mm
波长精度*1 ±0.3 nm> ±0.5 nm ±0.3 nm
感光元件*2 电子制冷型CCD影像感测器
          512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch
解析能力 1.2nm 0.6nm 1.7nm 0.9nm 1.3nm 0.6nm
曝光时间*3 20msec ~ 20sec
光纤规格 石英制光纤、固定口径φ12mm、长约1m
通讯介面 USB or LAN
尺寸重量 300(W)x 170(H)x 350(D)mm、约10kg
*1 波长校正用光源对汞物理辉线之确认值
*2 可选择512ch或1024ch
*3 感度设定为Normal时

产品特点：
         *多通道分光光谱仪高速量测紫外光(UV)、可见光(VIS)、近红外光(NIR)光谱。
         *功能丰富的专用软体，可进行显微分光、发光光源、表面反射率、穿透率、色度、膜厚等光谱量测。
         *采用更专业的CCD影像感测器，感光能力较MCPD-3700约高出200~700倍，在微弱光领域亦实现了20~30倍的高信噪比。
         *最适用于低辉度(0.3cd/m2)，如萤光、电浆发光等微弱光以及光源、显示器量测。
         *搭配功能丰富的专用软体，可进行显微分光、发光光源、表面反射率、穿透率、色度、膜厚等光谱量测。
         *可架设于生产线上、真空环境或嵌入于现有设备中即时量测。

三.膜厚仪：显微分光膜厚仪  反射式膜厚量测仪  椭圆偏光膜厚量测仪（自动）  椭圆偏光膜厚量测仪（手动）  膜厚量测仪  嵌入式膜厚量测仪  膜厚光谱分析仪系统  显微分光膜厚量测仪
   应用范围：

* FPD
・LCD、TFT、OLED(有机EL)
* 半导体、复合半导体
・矽半导体、半导体雷射、强诱电、介电常数材料
* 资料储存
・DVD、磁头薄膜、磁性材料
* 光学材料
・滤光片、抗反射膜
* 平面显示器
・液晶显示器、薄膜电晶体、OLED
* 薄膜
・AR膜
* 其它
・建筑用材料

产品规格

型号         OP-A1            OP-A2     OP-A3
波长范围  230～800nm 360～1100nm  900～1600nm
膜厚范围  1nm～35μm 7nm～49μm 16nm～92μm
样品尺寸 Max. 200mm×200mm×17mm
点径            φ 5μm（反射40倍镜头），改造后可达到3μm
tact time Measurement Time １秒／1点
尺寸          本体（W555×D537×H559mm）, 控制单元（W500×D180×H288mm）
功用           750 VA

*1上述式样是带有自动XY平台。
*2 release 时期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3预定2016年9月。
*3 膜厚范围是SiO2换算。

产品特点：
*膜厚测量中必要的功能集中于头部。
*通过显微分光高精度测量绝对反射率（多层膜厚、光学常数）。
*1点只需不到1秒的高速tact。
*实现了显微下广测量波长范围的光学系（紫外～近红外）。
*通过区域传感器控制的安全构造。
*搭载可私人定制测量顺序的强大功能。
*即便是没有经验的人也可轻松解析光学常数。
*各种私人定制对应（固定平台，有嵌入式测试头式样）。

四.反射式膜厚量测仪：

产品规格：
型号               标准型   厚膜专用型
样品大小       最大200mm×200mm×7（厚度）mm
可测层数       *1 
膜厚范围       1nm~40μm 0.8μm~210μm 1μm~240μm 80μm~1mm
波长范围       190nm~760nm 230nm~800nm 330nm~1100nm 430nm~970nm 750nm~850nm 900nm~1600nm 1490nm~1590nm
测试单元       CCD  CCD  CCD  PDA  PDA InGaAs InGaAs
膜厚精度      ±0.1nm（以NIST认证的标准样品为依据）*2
重复性精度（2.1σ）   
膜厚测试（Si基板上的SiO膜 100nm未满：0.1nm*3
100nm以上：0.07%
反射率测试（Si基板）230nm~250nm：0.8%*4
                    250nm~800nm：0.4% *4
                    800nm~1050nm：0.8%*4
测试光斑*5     φ40μm<×5倍>、φ20μm<×10倍>、φ10μm<×20倍>、φ6.6μm<×30倍>、φ5μm<×40倍>
对物镜头     反射式对物镜头倍数：×10倍、×20倍、×30倍、×40倍
                    折射式对物镜头（可视）：×5倍、×10倍、×20倍
测试光源     D 2(紫外光)、I 2(可见光)、D 2 +I 2(紫外-可见光)
XYZ stage     自动stage   手动stage
行程             X：200mm、Y：250mm、Z：10mm   X：200mm、Y：250mm、Z：10mm
重复性精度     2μm<0.5μm>   -
驱动分辨率     1μm<0.1μm>   -
尺寸·重量     481（W）mm×770（H）mm×714（D）mm约96kg   427（W）mm×770（H）mm×725（D）mm约88kg
控制单元     自动stage   手动stage
尺寸·重量     300（W）mm×710（H）mm×450（D）mm约34kg    300（W）mm×380（H）mm×450（D）mm约18kg
电源 规格     AC100V±10V   750VA    AC100V±10V   500VA
软件 
测试             手动测试/连续测试/制图测试（mapping）/测试与计算同步功能
解析             非线性最小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/最适化法
                    基板解析/里面反射补正/各类nk解析模型式
                    绝对反射率/解析结果Fitting/折射率n的波长相关性/消光系数k的波长相关性
                    3D显示功能（面内膜厚分布、鸟窥图、等高线、断面图）
系统维护     材料文件构建（database管理）、硬件的各种设定
其它             样品对焦的数值显示功能、自动对焦功能（自动stage有此功能）、内部反射补正功能
数据处理
数据处理     台式电脑、显示器、打印机

*1具体请咨询本公司。
*2以VLSI公司的标准样品(100nm SiO2/Si)范围值保证书为依据。
*3量测VLSI公司的标准样品(100nm SiO2/Si)同一点位时之重复性。(2.1倍σ)
*4具体参照相关保证书。
*5镜头为选配件，具体请咨询本公司。